薄膜生長速率測試儀，采用無損的激光技術實時原位檢測薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學常量（n&k），可廣泛的應用于金屬有機化學氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統Sputtering和蒸發系統等薄膜沉積過程的實時原位監控。